C11000 Lámina de cobre & Lámina (Cobre ETP / T2 / Cu-ETP)
C11000 es cobre Electrolytic Tough Pitch (ETP) — una aleación de cobre con ≥99,90 % de Cu que combina alta conductividad eléctrica y térmica (≈97 % IACS, 388 W/m·K) con buena resistencia a la corrosión, conformabilidad y excelente desempeño en brasado y soldadura. Es el cobre estándar para transmisión de energía, barras colectoras y componentes electrónicos.
Características Principales y Ventajas
-
Alta conductividad ≈97 % IACS y conductividad térmica de 388 W/(m·K).
- Excelente ductilidad y conformabilidad para doblado, embutido profundo y estampado.
- Buenas características para brasado, soldadura y chapado.
- Amplio rango de temple, desde recocido (O60) hasta duro (H06).
- Cobre de alta pureza fiable y económico para producción en volumen.
Aplicaciones típicas
- Barras colectoras, transmisión de energía y conectores/terminales eléctricos
- Transformadores, relés y contactores
- Desnudado de cables RF y conductores de audio de alta fidelidad
- Materiales para electrodos, componentes electrónicos y fundas de soporte
Grados equivalentes
| GB |
ASTM |
JIS |
EN |
| T2 |
C11000 |
C1100 |
Cu-ETP |
Composición química (%)
Propiedades físicas
| Densidad (g/cm³) |
Módulo (GPa) |
Expansión térmica (×10⁻⁶/K) |
Conductividad (%IACS) |
Conductividad térmica (W/m·K) |
| 8.89 |
115 |
17.64 |
97 |
388 |
Propiedades mecánicas (según temple)
| Temple |
Resistencia a la tracción Rm (MPa) |
Alargamiento % |
Dureza HV |
| O60 (Blando) |
≥195 |
≥30 |
≤70 |
| H01 (1/4D) |
215–295 |
≥25 |
60–95 |
| H02 (1/2D) |
245–345 |
≥8 |
80–110 |
| H04 (D) |
295–395 |
≥3 |
90–120 |
| H06 (ED) |
≥350 |
— |
≥110 |
Tamaños disponibles
Espesor desde 0,15 mm hacia arriba · Ancho personalizado (corte longitudinal) · Bobina en tira o lámina cortada.
¿Necesita una tira o lámina de cobre C11000 (ETP) de alta conductividad? Cualquier temple y tamaño — barras colectoras y grados electrónicos suministrados a nivel mundial.
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Preguntas frecuentes
P: ¿Qué es el cobre C11000?
C11000 es cobre de punta resistente electrolítico (ETP), una aleación con ≥99,90 % de Cu (GB T2 / JIS C1100 / EN Cu-ETP) valorada por su muy alta conductividad.
P: ¿Cuál es la conductividad del C11000?
Aproximadamente un 97 % IACS, con una conductividad térmica de 388 W/(m·K).
P: ¿Para qué se utiliza el C11000?
Barras colectoras, transformadores, relés, conectores, desarmado de cables RF, electrodos y componentes electrónicos/eléctricos generales.
P: ¿Es el C11000 lo mismo que el cobre T2?
Sí. C11000 (ASTM) corresponde a T2 (GB), C1100 (JIS) y Cu-ETP (EN).
EN
